晶片清洗 发明专利 116 条 实用新型专利 8 条
序号 专利号 名称
1 01130872.9 叶片式基片清洗方法及其装置
2 00817448.2 清洗和调理等离子体反应腔体的方法
3 01118479.5 基板清洗系统
4 02160294.8 半导体器件制造方法、制造装置及其清洗方法和制造系统
5 02123010.2 用于清洗晶片的清洗水和清洗晶片的方法
6 01130873.7 叶片式基片清洗方法及其装置
7 01129647.X 半导体晶片的清洗方法
8 01123455.5 晶片清洗装置
9 03107357.3 晶片清洗系统
10 03122575.6 在制造半导体器件过程中清洗半导体晶片的波形花纹结构的方法
11 02143435.2 用于制造半导体器件的强声波清洗设备
12 01815358.5 晶片容器清洗设备
13 00820081.5 清洗方法和腐蚀方法
14 96105115.9 用于清洗半导体晶片的装置和方法
15 96114251.0 半导体晶片清洗装置
16 96114249.9 半导体晶片清洗装置
17 96119772.2 清洗桶式反应器用的方法和装置
18 97103052.9 清洗晶片用的设备
19 96114250.2 半导体晶片清洗装置
20 95115577.6 半导体晶片清洗剂及其清洗方法
21 96191635.4 清洗多层牺牲腐蚀的硅衬底的方法
22 97109669.4 用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品
23 97122584.2 清洗金属污染的晶片基片同时保持晶片的光滑性的方法
24 98115144.2 半导体清洗装置
25 99107491.2 半导体器件清洗装置和清洗半导体器件的方法
26 98800045.8 一种清洗和腐蚀电子显示器以及衬片的组合物
27 98122796.1 清洗方法及装置
28 97197334.2 清洗电子元件构件或类似零件的方法和装置
29 99103484.8 用于半导体器件的清洗/干燥台和生产线
30 99105481.4 半导体器件的生产工艺和其中使用的清洗装置
31 98118826.5 改进的清洗和干燥半导体晶片的装置及方法
32 98108994.1 超声波清洗设备
33 00102991.6 蚀刻和清洗方法及所用的蚀刻和清洗设备
34 00108988.9 特超声清洗半导体晶片中的去离子水温控去气
35 98120780.4 大晶片清洗装置
36 98812108.5 硅晶片研磨之后的清洗工艺
37 98812998.1 原位晶片清洗方法
38 99804744.9 用于清洗半导体晶片的装置和方法
39 99808240.6 用于在半导体处理反应器中各次清洗之间增大晶片处理量的装置和方法
40 99808801.3 用于清洗微电子衬底的含硅酸盐碱性组合物
41 00800942.2 半导体晶片清洗装置和方法
42 01129350.0 防止金属腐蚀的半导体工艺的清洗方法
43 99812346.3 清洗晶片用的盛器
44 98809607.2 具有在用于接触清洗操作的主反应室外部的辅助电极的电镀系统
45 01121071.0 基片清洗装置
46 99813901.7 晶片清洗和蒸汽干燥系统和方法
47 00804321.3 清洗半导体晶片的方法和装置
48 00131766.0 溅镀清洗室的晶座设计及应用该设计的金属化制造过程
49 00808033.X 半导体晶片兆赫声波清洗用去离子水的控温充气
50 00808733.4 半导体晶片的清洗方法与系统
51 99803710.9 容器清洗装置
52 01131119.3 叶片式基片清洗方法及其装置
53 00813314.X 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
54 01119739.0 清洗半导体晶片的方法及其所采用的清洗系统
55 01129398.5 半导体晶片的清洗方法
56 01820692.1 清洗晶片边缘的装置
57 03153863.0 晶片电子器件的清洗干燥方法及装置
58 02807236.7 含有铜特异的防腐剂、用于清洗半导体衬底上的无机残余物的水性清洗组合物
59 200310119805.X 制造半导体器件的方法和用于清洗衬底的设备
60 02809386.0 处理室残留物的两步式等离子清洗
61 01816924.4 用于清洗衬底表面的晶片清洗组件及其方法
62 01817467.1 用于清洗微电子基底的稳定的碱性组合物
63 200410002007.3 清洗电子元件或其制造设备的元件的方法和装置
64 02814102.4 控制单晶片清洗系统的电化腐蚀效应的设备和方法
65 200410064092.6 半导体晶片的清洗方法和清洗装置
66 02820935.4 用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物
67 200410083298.3 晶片清洗方法与设备
68 03801601.X 旋转式硅晶片清洗装置
69 03159417.4 清洗保养旋转蚀刻机的方法
70 03151423.5 半导体晶片的清洗液及清洗方法
71 200410096239.X 半导体器件的制造方法及用于剥离抗蚀剂的清洗装置
72 200410102200.4 半导体晶片的清洗方法
73 02807627.3 具角度的旋转、清洗、及干燥模组与其制造及实施方法
74 03806833.8 清洗半导体基板的PH缓冲组合物
75 200510008130.0 晶片的清洗方法以及栅极结构的制造方法
76 200610008997.0 清洗装置、涂布·显影装置以及清洗方法
77 200610007478.2 基板处理方法、清洗方法、电子设备的制造方法和程序
78 200510067052.1 半导体器件的清洗液和制造方法
79 200510076202.5 移除阻挡层后的无晶片自动清洗
80 200510067931.4 基板清洗装置和基板清洗方法
81 200510069240.8 单晶片清洗装置及其清洗方法
82 200510073964.X 用于半导体衬底上的金属层和图形的腐蚀-抑制清洗组合物
83 200380102846.6 清洗微结构的方法
84 200510084304.1 清洗方法及用于实施该方法的清洗装置
85 200380105489.9 清洗剂组合物、半导体晶片的清洗和制造方法、以及半导体晶片
86 200380107179.0 采用臭氧清洗半导体晶片表面的装置和方法
87 200510044738.9 新型半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺
88 200510070055.0 溅镀清洗室的晶座设计及应用该设计的金属化制造过程
89 200510107029.0 清洗探头和具有该探头的兆频超声波设备
90 200510116033.3 旋转式清洗装置和切割装置
91 200410096843.2 一种砷化镓晶片清洗方法
92 200410102183.4 单片式清洗工艺
93 200480016095.0 晶片承载器清洗系统
94 200510056402.4 清洗和干燥晶片的方法及装置
95 200510059872.6 晶片清洗及干燥装置
96 200510025811.8 半导体晶片的新型清洗方法
97 200480029395.2 具有多层处理腔室的清洗衬底的装置以及使用该装置清洗衬底的方法
98 200480033944.3 基板清洗方法、基板清洗装置以及计算机可读取的存储介质
99 200610014442.7 液晶显示屏电化学清洗方法
100 200580001936.5 改进的用于CMP后清洗的碱性化学处理法
101 200580004044.0 改进的用于CMP后清洗的酸性化学处理剂
102 200510097895.6 清洗晶片的方法
103 200510098149.9 晶片洁净装置的晶片保护系统以及晶片清洗工艺
104 200510109786.1 晶片清洗工艺以及形成开口的方法
105 200580012831.X 基板清洗方法、基板清洗装置、计算机程序和程序存储介质
106 200510113718.2 化学机械抛光装置及其抛光垫的清洗方法与平坦化的方法
107 200580015945.X 清洗衬底表面的方法
108 200510118759.0 晶片清洗装置及其清洗方法
109 200510086960.5 一种精密抛光晶片用有机物清洗液
110 200510111602.5 用于半导体晶片清洗的缓蚀剂体系
111 200580030224.6 基板清洗方法以及显影装置
112 200710020269.6 太阳能硅晶片清洗剂
113 200610054965.4 晶边清洗的方法
114 200610077736.4 化学机械研磨后的晶片清洗方法
115 200710005732.X 半导体晶片的清洗溶液及内连线结构的形成方法
116 200610027584.7 光刻胶残留物的清洗方法
1 02235920.6 晶片清洗机
2 02281624.0 自动取料的晶片清洗机
3 00228266.6 清洗系列超声波换能器
4 03258238.2 晶片清洗机
5 200520142752.8 晶片清洗设备的清洗刷夹持装置
6 200620042691.2 表面贴装二极体晶片焊接后清洗夹具
7 200620049080.0 化学机械研磨机台的清洗装置
8 200620049609.9 具有改良型夹具的晶片清洗机台

期刊文献
1  晶圆制备工艺用清洗洁净及环保新技术　　 成立 李加元... 半导体技术 200610
2  宽禁带半导体材料清洗技术研究　　 张瑾 杜海文 电子工艺技术 20064
3  用单片清洗设备进行晶圆背面清洗　　 Lewis Liu... 电子工业专用设备 20067
4  单晶圆湿式处理市场取得长足进步　　 无 电子工业专用设备 20066
5  复频超声波清洗器的研制　　 任金莲 牛勇... 压电与声光 20063
6  新型兆声清洗去除集成电路衬底硅片表面污染物的分析研究　　 李薇薇 周建伟... 电子器件 20061
7  蓝宝石晶片表面净化技术研究　　 周海 杭寅... 电子机械工程 20056
9  如何在半导体芯片上监测巨量声波气泡　　 云中客 物理 20054
10  印刷　　 无 中国电子商情：SMT 20051
11  集成光学制备工艺中的清洗和腐蚀　　 郭亚明 半导体技术 20051
12  硅晶片表面污染物去除的关键工艺　　 KurtK.Christenson 电子工业专用设备 20049
13  半导体IC清洗技术　　 李仁 半导体技术 20039
14  单晶α—Al2O3镜面加工工艺研究　　 周海 周来水 天津大学学报：自然科学与工程技术版 20021
15  ULSI衬底硅单晶片清洗技术现况与展望　　 刘玉岭 桑建新... 稀有金属 20012
16  中国电子化学品新机遇　　 无 化工文摘 20019
17  石英晶体片研磨与清洗的表面物理化学　　 魏振华 周国英 压电晶体技术 19991
18  晶片清洗和超微粒子效应　　 俞晖 半导体杂志 19921

1  CMP后的晶圆清洗　　 无 电子工业专用设备 20066
2  浸泡式清洗的新突破　　 无 半导体技术 20066
3  离心旋转喷雾式清洗技术　　 无 半导体技术 20063
4  FSI国际收到亚洲代工厂对其ZETA喷雾式清洗系统的继续订货　　 无 集成电路应用 20054
5  成本有效的用于互连线条的稀释酸刻蚀后清洗　　 H．S．Sohn J．W．Butterbaugh... 半导体技术 20054
6  全球晶圆清洗设备看好中国市场　　 无 洗净技术 20049
7  全球晶圆清洗设备看好中国市场　　 无 集成电路应用 20045
8  SEZ公司推出300mm,90nm技术的单晶圆清洗系统　　 无 洗净技术 200309M

1  晶圆清洗的挑战——《半导体国际》第三届晶圆清洗技术研讨会　　 无 集成电路应用 20069
2  《半导体国际》晶圆清洗技术专家委员会宣布成立!　　 无 集成电路应用 20069
3  氮（氧）化硅湿法刻蚀后清洗方式的改进　　 徐宽 程秀兰 半导体技术 20069
4  宽禁带半导体材料清洗技术研究　　 张瑾 杜海文 电子工艺技术 20064
5  用单片清洗设备进行晶圆背面清洗　　 Lewis Liu... 电子工业专用设备 20067
6  应对深亚微米清洗技术的挑战——第三届晶圆清洗技术研讨会　　 无 集成电路应用 20067
7  “晶圆清洗的挑战”《半导体国际》第三届晶圆清洗技术研讨会　　 无 集成电路应用 20067
8  等离子清洗的应用与技术研究　　 张塍 电子工业专用设备 20066
9  低温气胶无损伤清洗　　 JeffreyM.Lauerhaas CarlosMorote 电子工业专用设备 20066
10  SEZ：单晶圆清洗解决方案的创新者——访瑟思半导体设备有限公司亚太区技术和行销副总裁 陈溪新博士　　 黄友庚 中国集成电路 20065
11  微电子工业中清洗工艺的研究进展　　 韩恩山 王焕志... 微电子学 20062
12  日本开发可提高臭氧浓度的半导体清洗装置　　 杨晓婵（摘译） 现代材料动态 20064
13  IC制造中清洗技术发展的分析　　 盛金龙 半导体技术 20063
14  半导体清洗技术的主流厂商：FSI国际　　 无 半导体技术 20063
15  扩散和清洗的发展方向——国产半导体设备探讨　　 盛金龙 刘效祯 半导体技术 20062
16  HF／O3在300mm硅片清洗中的应用　　 闫志瑞 李俊峰... 半导体技术 20062
17  “晶圆清洗技术”研讨会成功举行　　 无 集成电路应用 20059
18  90～65nm清洗新技术　　 张晓红 王锐廷 电子工业专用设备 20058
19  缩短批次式清洗周期的策略　　 JefferyW.Butterbaugh 半导体技术 20058
21  半导体制造中清洗技术的新动向　　 许宝兴 电子工业专用设备 20057
22  向65nm工艺提升中的半导体清洗技术　　 童志义 电子工业专用设备 20057
23  SEZ盛邀世界级行业专家GLENN GALE出任FEOL清洗项目部副总裁　　 无 电子工业专用设备 20057
24  表面清洗　　 无 表面工程：英文版 20053
25  表面清洗　　 无 表面工程：英文版 20052
26  IC业带动半导体清洗设备市场增长　　 无 集成电路应用 20054
27  氟气—清洗化学气相沉积　　 无 无机化工信息 20051
28  领先清洗技术厂商进入中国半导体制造市场　　 无 电力电子 20051
29  FSI国际收到国际客户对其ZETA喷雾式清洗系统的继续订货　　 无 集成电路应用 20052
30  IC业带动半导体清洗设备市场增长　　 无 集成电路应用 20052
31  兆声清洗法和离心喷射清洗法的比较　　 凤坤 史迅达... 半导体学报 20052
32  领先清洗技术厂商进入中国半导体制造市场　　 无 现代电子技术 20053
33  全面的解决方案确保生产能力——晶圆清洗专家为中国量身打造解决方案　　 无 半导体技术 20053
34  IC业带动半导体清洗设备市场增长　　 无 电子工业专用设备 20051
35  布局中国大陆市场：FSI多层次清洗设备和服务提振生产能力　　 孙俊杰 电子测试：新电子 20051
36  IC业带动半导体清洗设备市场增长　　 无 半导体技术 20052
37  一种水剂清洗剂组合物　　 无 电镀与涂饰 20051
38  化学机械抛光后板刷擦洗清洗　　 赵岳星 电子工业专用设备 20042
39  硅片清洗设备的日常维护　　 闫志瑞 李俊峰... 电子工业专用设备 20042
40  300mm圆片后抛光清洗——满足纳米微粒去除的挑战　　 Ping chungChen StcvenHeWang... 电子工业专用设备 20041
41  关于CVD膛腔清洗工艺中降低成本及减少释放量的研究　　 GaryLoh 陆晴... 集成电路应用 20049
42  使用半水基清洗剂的清洗技术（第二次报告）　　 前野纯一 电子工业专用设备 200412
43  FSI为半导体产业提供清洗技术　　 无 中国集成电路 20048
44  Ф300mm硅片抛光后清洗工艺的挑战——清除深亚微米颗粒的方案　　 StevenHeWang 电子工业专用设备 200410
45  半导体晶圆自动清洗设备　　 王锐延 电子工业专用设备 20049
46  半导体硅片清洗工艺发展方向　　 闫志瑞 电子工业专用设备 20049
47  对抛光片清洗技术的研究　　 何良恩 凤坤... 半导体技术 20047
48  高品质清洗技术为IC产业的发展 保驾护航　　 扬雪 张伟 半导体技术 20047
49  半导体元件清洗技术浅谈　　 朱文平 宫建国 洗净技术 200310M
50  等离子清洗技术（二）　　 熊楚才 洗净技术 200310M
51  在圆片加工工序之间充氮清洗200mmSMIF槽的好处　　 ChristopherWiebe SammerA.Abu Zaid... 半导体技术 20035
52  对GaAs衬底表面进行氩离子清洗的研究　　 刘斌 方高瞻... 激光杂志 20031
53  兆声清洗技术与设备　　 杨建忠 贾笑林 洗净技术 200307M
54  硅片的化学清洗技术　　 张厥宗 洗净技术 200306M
55  SEZ揭开业界最高产的采用90—NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱　　 无 中国集成电路 200350
56  新型半导体清洗剂的清洗工艺　　 曹宝成 于新好... 半导体学报 20027
57  激光清洗技术评述　　 张魁武 应用激光 20022
58  清洗后硅片表面的电子结构　　 曹宝成 刘忠立... 固体电子学研究与进展 20024
59  大变革中的半导体清洗设备市场　　 绍莹 电子产品世界 20013
60  用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究　　 曹宝成 刘忠立... 半导体学报 20019
61  TAW—3硅片自动清洗装置的设计　　 吴燕 微电子技术 20012
62  关于淘汰氟氯烃清洗技术路线的选择　　 沈金宇 印制电路与贴装 20017
63  低压等离子体清洗金属表面的工业应用　　 卫冰 等离子体应用技术快报 20002
64  非ODS水剂清洗控制系统　　 付军伟 陈传继 电子工艺技术 20004
65  硅表面清洗对7nm热SiO2栅介质可靠性的影响　　 高文钰 刘忠立 半导体学报 199910
66  硅表面清洗对热氧化13nmSiO2可靠性的影响　　 高文钰 刘忠立 半导体学报 19995
67  干式晶圆清洗技术摆脱无“水”炊的梦魇　　 陈明江 世界电子元器件 199911
68  新型电子工业清洗工艺研究　　 曹宝成 马洪磊 山东电子 19984
69  双面刷洗将成为下一代器件片子清洗工艺的主流　　 谢中生 电子工业专用设备 19983
70  超光滑表面清洗技术的最新进展　　 史兴宽 任敬心 航空精密制造技术 19971
71  微电子工业中的清洗方法　　 杨培根 半导体技术 19974
72  采用免清洗技术提高波峰焊接质量的研究　　 贺彪 电子工艺技术 19966
73  超净硅片表达化学清洗工艺的优化研究　　 叶志镇 姜小波 半导体学报 19965
74  用气体清洗去防止抽粗真空过程中的油返流现象　　 堤芳 刘雪峰 四川真空 19963
75  半导体片子清洗技术及设备　　 杨顺 电子工业专用设备 19964
76  半导体器体生产中的化学清洗　　 汪涛 化学清洗 19953
77  新型电子清洗工艺对半导体表面的清洗效果　　 曹宝成 马洪磊 山东大学学报：自然科学版 19952
78  微电子制造科学与技术计划中的硅片清洗　　 信达 微电子学 19954
79  清洗用氟化气体材料的开发　　 无 化工新型材料 19956
80  光学方法清洗半导体器件　　 佐藤泰久 陶德生 光电子技术与信息 19921
81  紫外光清洗（剂）　　 吴国锋 光的世界 19925