光刻胶 发明专利 323 条
序号 专利号 名称
1 02819901.4 用于液晶设备的正型光刻胶组合物
2 200410055223.4 聚合物和含有该聚合物的光刻胶
3 200410064070.X 氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶
4 03147269.9 一种光刻胶涂敷装置
5 200410018286.2 基于厚胶光刻的三维微结构加工方法
6 02821757.8 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
7 200410071625.3 磺酸盐和光刻胶组合物
8 200410070564.9 设计图形、光掩模、光刻胶图形及半导体器件的制造方法
9 200410071477.5 用于涂布EUV平板印刷术基底的方法和具有光刻胶层的基底
10 200410042367.6 光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法
11 01818641.6 微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂
12 200410062491.9 光刻胶修整方法
13 200410068341.9 正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
14 02824118.5 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
15 200410083191.9 化学放大型正光刻胶组合物及其树脂
16 200410065791.2 光刻胶三维刻蚀过程模拟的动态元胞自动机方法
17 02821802.7 适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末
18 03802066.1 负性深紫外光刻胶
19 03802089.0 一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物
20 200410090474.6 带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系
21 02821615.6 包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物
22 02808158.7 用于有机硅酸盐玻璃低K介质腐蚀应用的用于O₂和NH₃的蚀刻后光刻胶剥除
23 200410104922.3 交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法
24 200510003601.9 含有包括氟磺酰胺基团的聚合物的正型光刻胶组合物及其使用方法
25 200510004738.6 化学放大型正光刻胶组合物
26 03808542.9 除去光刻胶和蚀刻残渣的方法
27 03808168.7 包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物
28 200410011595.7 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
29 200410011596.1 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
30 200410011597.6 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
31 03811209.4 纳米压印光刻胶
32 03811241.8 去除光刻胶和蚀刻残留物的方法
33 03811167.5 光刻胶膜除去装置和光刻胶膜除去方法及有机物除去装置和有机物除去方法
34 03811168.3 光刻胶除去装置和光刻胶除去方法
35 200510009433.4 稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法
36 03813607.4 包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻胶组合物
37 200510055286.4 一种采用激光对SU-8胶曝光光刻的方法及其装置
38 200510067714.5 光刻胶组合物
39 200510056001.9 一种化学放大型正光刻胶组合物
40 200410014386.8 正性光刻胶的制作方法
41 03821966.2 光刻胶剥离剂组合物
42 02805465.2 用于生产光学信息介质用光刻胶母模和印模的方法
43 01822868.2 消去光刻胶与OSG之间的反应的方法
44 01818248.8 用于提高光刻胶附着的无定形碳层
45 02131997.9 确定晶片对准标记外围辅助图形的方法及所用光刻胶掩模
46 02152939.6 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物
47 02152940.X 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物
48 02160142.9 PS版和光刻胶用的合成树脂及制备方法
49 03149913.9 光刻胶图案增厚材料、包含它的光刻胶图案及其应用
50 01819722.1 含有光刻胶组合物的多层元件及其在显微光刻中的应用
51 03150307.1 光刻胶图案增厚材料、光刻胶图案及其形成工艺，半导体器件及其制造工艺
52 03156561.1 化学增强型光刻胶组合物
53 03138830.2 高分辨率映像装置用光刻胶
54 03155804.6 磺酸盐和光刻胶组合物
55 03134679.0 光刻胶图案增厚材料，光刻胶图案形成工艺和半导体器件制造工艺
56 02807763.6 用于微型平板印刷术的多环含氟聚合物及光刻胶
57 01819801.5 "聚合物中的保护基,光刻胶及微细光刻的方法"
58 01819800.7 聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用
59 02156639.9 负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法
60 02153956.1 光刻胶掩模及其制作方法
61 02150649.3 光刻胶沉积设备以及使用该设备形成光刻胶薄膜的方法
62 02808944.8 短波成像用溶剂和光刻胶组合物
63 03100275.7 光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法
64 02809702.5 用于深紫外光刻术的光刻胶组合物
65 02812661.0 衬底处理和光刻胶曝光方法
66 02812972.5 光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法
67 02809987.7 含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物
68 01817217.2 微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂
69 02809711.4 适于光刻胶组合物的聚合物
70 02816205.6 用于光刻胶的感光树脂组合物
71 200310109462.9 集成电路制造技术中可消除光刻中光刻胶毒化的工艺
72 200410038704.4 化学放大型光刻胶组合物
73 02818896.9 负作用水性光刻胶组合物
74 200510128887.3 光刻胶组合物
75 200480018439.1 适合用来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应用
76 200610007140.7 光刻胶组合物及用它形成薄膜图案的方法以及用它制备薄膜晶体管阵列板的方法
77 200480019216.7 提供改良的双层光刻胶图案的方法
78 200610038786.1 深紫外负性光刻胶及其成膜树脂
79 200610038787.6 深紫外正性光刻胶及其成膜树脂
80 200510128708.6 光刻胶组合物
81 200610005454.3 含有树脂掺合物的光刻胶组合物
82 200480019981.9 正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法
83 200510066667.2 化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法
84 200380100597.7 双层光刻胶干法显影的方法和装置
85 200510040276.3 含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶
86 200510024839.X 从光刻胶和/或剥离液中回收有机化合物的方法
87 200510040392.5 光刻胶成膜树脂制备中的聚合物选择水解方法
88 200410018451.4 使用光刻胶层来形成多重导线连接的方法
89 200510082468.0 涂布膜的加热装置和光刻胶的处理装置
90 200510074806.6 光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物
91 200380103776.6 光刻胶用抗反射组合物
92 200410052845.1 改善蚀刻后光刻胶残余的半导体器件制造方法
93 200510088468.1 光刻胶保护膜用组合物、光刻胶保护膜及光刻胶图形形成方法
94 200510089495.0 模具式涂布器涂布方法及以此法制的光刻用防护胶膜组件
95 200510092419.5 防护胶膜框架及利用此框架的光刻用防护胶膜组件
96 200380109011.3 光刻胶的去除
97 200480002239.7 利用具有碳层的传输掩模构图晶片上的光刻胶的方法
98 200510060784.8 石英/AZ光胶紫外光光刻掩模的制备方法
99 200510106370.4 光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法
100 200480002771.9 涂料组合物、抗反射膜、光刻胶及采用该光刻胶的图形形成方法
101 200510080129.9 用于涂敷光刻胶的装置和方法
102 200510080185.2 软烘焙基板上的光刻胶的装置和方法
103 200410054374.8 使用T型光刻胶图案来形成缩小导线图形的方法
104 200510105132.1 用于剥离光刻胶的组合物及薄膜晶体管阵列面板制造方法
105 200510106482.X 化学放大型光刻胶组合物
106 200480005983.2 使用具有多层ARC的反射掩模在晶片上图案化光刻胶的方法
107 200480005996.X 利用衰减的相移掩模图案化晶片上的光刻胶的方法
108 200510089651.3 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物
109 200480006521.2 化学放大型正型光刻胶组合物
110 200480007786.4 控制光刻胶组合物溶解速率差的方法
111 200510090789.5 用于光刻胶的感光树脂组合物
112 200510090790.8 用于光刻胶的感光树脂组合物
113 200510113645.7 用于在制造半导体器件等中分配光刻胶的方法和设备
114 200410091156.1 氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用
115 200510080138.8 等离子室系统及使用该系统灰化光刻胶图案的方法
116 200510115296.2 具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料
117 200480013389.8 用于深UV的光刻胶组合物及其成像方法
118 200510068848.9 用于涂覆光刻胶图案的组合物
119 200510135708.9 光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架
120 200610039385.8 含硅偶联剂的193nm光刻胶及其成膜树脂
121 200610072413.6 光刻胶稀释剂的制造方法
122 200610039655.5 含硅193nm负性光刻胶及其成膜树脂
123 200510128706.7 光刻胶组合物
124 200610066854.5 利用具有热流动特性的负光刻胶层制造半导体的方法
125 200480022460.9 光刻胶聚合物组合物
126 200480026568.5 增强光刻胶黏性的无定形碳层
127 200610073696.6 包括除去光刻胶的等离子体灰化处理的形成半导体器件的方法
128 200480029164.1 用于有机硅化物玻璃的一氧化二氮去除光刻胶的方法
129 200480029963.9 改善沉积的介电膜上的显影后光刻胶外形的方法
130 200480029601.X 在光刻胶去除过程中最小化阻障材料损失的方法
131 200610067929.1 与外涂的光刻胶一起使用的涂层组合物
132 200480025876.6 微光刻技术用光刻胶组合物中的溶解抑制剂
133 200480026115.2 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
134 200510040224.6 193nm远紫外光刻胶及其制备方法
135 200510040225.0 193nm远紫外光刻胶及其制备方法
136 200610071189.9 用于改进临界尺寸计算中使用的光刻胶模型的校准的方法、程序产品以及设备
137 200480031044.5 包括金刚形烃衍生物的光刻胶组合物
138 200480031340.5 用于从衬底去除光刻胶的方法和设备
139 200510137504.9 光刻胶聚合物、光刻胶组合物及制造半导体装置的方法
140 200610092645.8 光刻胶单体及其聚合物以及包含该光刻胶聚合物的光刻胶组合物
141 200610101351.7 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物
142 200610098739.6 "光刻胶组合物,薄膜图案形成方法、TFT阵列面板制造方法"
143 200480034953.4 用于深紫外的光刻胶组合物及其工艺
144 200610103511.1 光刻胶去除剂组合物以及用该组合物形成布线结构和制造薄膜晶体管基片的方法
145 200610101176.1 用于光刻胶的阻挡涂敷组合物及使用该组合物形成光刻胶图形的方法
146 200510089655.1 去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法
147 200580003633.7 光刻胶组合物和使用方法
148 200580004804.8 利用处理的光刻胶来制造半导体器件的方法
149 200610128676.4 用于去除半导体器件的改性光刻胶的光刻胶去除剂组合物
150 200610129178.1 光刻胶液制备方法及使用该光刻胶液的光刻胶膜
151 200510098290.9 具有多环内脂结构单元的聚合物在深紫外光刻胶中的应用
152 200610129177.7 光刻胶液供给装置及用于得到它的改造套件
153 200580006991.3 浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法
154 200510102771.2 包含具有螺环缩酮基团的单体的光刻胶聚合物及其组合物
155 200610139932.X 制备化学放大正性光刻胶用树脂的方法
156 200580012969.X 用于形成液浸曝光工艺用光刻胶保护膜的材料、以及使用该保护膜的光刻胶图案形成方法
157 200580014563.5 用于去除光刻胶的组合物
158 200580014564.X 用于去除光刻胶的组合物
159 200610162068.5 化学增强型光刻胶组合物
160 200610145216.2 光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法
161 200610149823.6 用于去除光刻胶的组合物及利用该组合物形成图案的方法
162 200580019167.1 采用负性光刻胶组合物形成电镀产品的方法以及在该方法中使用的光敏组合物
163 200610110078.4 半导体结构及使用其形成光刻胶图形和半导体图形的方法
164 200610140353.7 光刻胶组合物
165 200510111675.4 光刻胶涂覆装置及其方法
166 200610168220.0 适用于产酸物的树脂和含有该树脂的化学放大正性光刻胶组合物
167 200580030001.X 脱除衬底上光刻胶的方法
168 200580025663.8 光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案形成方法
169 200580025673.1 光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案的形成方法
170 200710079265.5 化学放大正性光刻胶组合物
171 200580031007.9 用于光刻胶的抗反射组合物
172 200710039017.8 用叠层光刻胶牺牲层制备MEMS悬空结构的方法
173 200710084492.7 用来与外涂的光刻胶一起使用的涂料组合物
174 200610065829.5 光刻胶再生方法及其系统
175 200610024870.8 缩小光刻胶接触孔图案的临界尺寸的方法
176 200480044253.3 形成光刻胶图案的方法
177 200580037064.8 包括具有氢流速渐变的光刻胶等离子体老化步骤的蚀刻方法
178 200710041905.3 光刻胶液清洗过滤器气泡的方法
179 200610026756.9 消除光刻胶中气泡的方法及凸点制作方法
180 200710109760.6 用于光刻胶去除的组合物和方法
181 200710110313.2 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和元件制造方法
182 200610027584.7 光刻胶残留物的清洗方法
183 200610014415.X 一种用于去除集成电路光刻胶的清洗液
184 200580045692.0 光刻胶和刻蚀残留物的低压去除
185 200580046337.5 光刻胶和刻蚀残留物的低压去除
186 200710127166.X 光刻胶组合物和使用其制备滤色片基片的方法
187 200610100565.2 防止静电聚集的光刻胶涂布机承载盘
188 200710111114.3 移除光刻胶的方法
189 200580045567.X 用于晶片级包装中光刻胶剥离和残留物去除的组合物和方法
190 200710018668.9 超支化聚硅氧烷基光刻胶
191 200610029910.8 光刻胶涂布系统
192 200610029857.1 采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法
193 01141490.1 光刻胶用剥离液组合物
194 02128219.6 光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
195 02142279.6 光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
196 02131624.4 反射防止膜的光学常数的决定方法和光刻胶图形的形成方法
197 02142219.2 光刻胶组合物
198 02148233.0 光刻胶组合物
199 00816779.6 用于深紫外线辐射的光刻胶组合物
200 02145886.3 化学放大型正性光刻胶组合物
201 00817637.X 检测光刻胶剥离过程终点的方法和装置
202 01807989.X 化学增强光刻胶及一种光刻胶合成物
203 02153815.8 光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体
204 01808573.3 光刻胶剥离剂组合物
205 02140154.3 光刻胶层中减小图案大小的方法
206 01804796.3 具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物以及使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物
207 02141841.1 光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
208 01810235.2 光刻胶去除剂混合物
209 01811264.1 负作用化学放大的光刻胶组合物
210 02154275.9 环状锍和氧化锍及含有它们的光致酸生成剂和光刻胶
211 01811577.2 感光性树脂组合物、使用它的感光性元件、光刻胶图案的制造方法及印刷电路板的制造方法
212 03120076.1 光刻胶剥离组合物及清洗组合物
213 02120076.9 用于剥离光刻胶的组合物
214 01812974.9 用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法
215 03136946.4 用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法
216 00819669.9 包括氟化铵的光刻胶去除剂组合物
217 03109544.5 光刻胶剥离除去方法及装置
218 01814891.3 用于有机硅酸盐玻璃的低K蚀刻应用中的蚀刻后由氢进行的光刻胶剥离
219 00819962.0 将干燥光刻胶膜层热层压到印刷电路板上的方法
220 95192017.0 稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用
221 96114151.4 超强酸催化的无显影气相光刻胶
222 96114150.6 有机碱催化的无显影气相光刻胶
223 95196387.2 用于微电子的无胺光刻胶粘接促进剂
224 85100457 稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备
225 87105308 含光刻胶的废液的处理
226 88100287 彩色显象管荧光屏的形成方法和光刻胶的组合物
227 89109246.3 彩色显象管荧光屏的光刻胶组合物
228 90102772.3 在光刻胶中使用多支线型酚醛树酯的方法
229 90110445.0 制备用于高分辨率光刻胶组合物的高玻璃化温度线型酚醛树脂的方法
230 90109643.1 正向作用的光刻胶
231 91104298.9 光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的制备方法
232 94113847.X 含有非离子氟代烃表面活性剂的水性光刻胶
233 94118622.9 含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶
234 94119237.7 光刻胶剥离液管理装置
235 94120086.8 形成光刻胶图形的方法
236 94116129.3 具有联合增稠剂的带水光刻胶
237 95107005.3 正性光刻胶
238 95107601.9 检测涂敷在晶片上的光刻胶膜微观厚度差的方法
239 97110797.1 光刻胶剥离液管理装置
240 97115414.7 光刻胶组合物
241 97111875.2 在半导体器件上形成光刻胶膜的装置及其形成方法
242 97119281.2 在半导体晶片上形成光刻胶图形的方法
243 97109669.4 用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品
244 95113199.0 用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法
245 98100726.0 化学增强的光刻胶
246 98100895.X 化学增强的光刻胶
247 96198863.0 无高温蒸馏酚醛清漆树脂分离法和光刻胶组合物
248 96198607.7 通过螯合型离子交换树脂降低光刻胶组合物中的金属离子
249 99107757.1 光刻胶正胶组合物
250 97193958.6 包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物
251 98124457.2 在化学敏感型光刻胶上形成图形的方法
252 98125184.6 用于准确地转换非均匀厚度光刻胶层中的潜像的工艺
253 97192771.5 正性光刻胶组合物的热处理方法
254 97192770.7 正性光刻胶组合物的热处理方法
255 97197072.6 "含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物"
256 97197298.2 光刻胶组合物用的水性抗反射涂料
257 99102894.5 光敏树脂组合物和用于生产印刷电路板的光刻胶油墨
258 99103239.X 光刻胶组合物
259 99100483.3 形成光刻胶图形的方法
260 99106272.8 光刻胶组合物
261 98103084.X 光刻胶的显影工艺
262 96199562.9 作为合成酚醛清漆树脂的催化剂的酸性离子交换树脂和由该树脂制得的光刻胶
263 98101653.7 光刻胶喷涂的装置及其方法
264 97104658.1 对于高粘度光刻胶涂层的无条纹涂敷方法
265 97192717.0 光刻胶的涂覆装置和涂覆方法
266 98117969.X 碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
267 98117966.5 酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
268 96199202.6 用于正性光刻胶的混合溶剂系统
269 98120186.5 化学增强的光刻胶
270 98119381.1 一种干膜光刻胶
271 00100303.8 化学放大型正光刻胶组合物
272 00102364.0 改善光刻胶耐蚀刻性的方法
273 00101869.8 含有环烯烃聚合物及饱和甾族添加剂的光刻胶组合物
274 00101840.X 环状烯烃聚合物和添加剂的光刻胶组合物
275 00103514.2 化学增强型正光刻胶组合物
276 00103570.3 化学增强型光刻胶
277 00105367.1 改善光刻胶耐刻蚀性的方法
278 98808918.1 包含具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物
279 00103850.8 含有环烯烃聚合物及疏水非甾族多脂环添加剂的光刻胶组合物
280 00101839.6 环烯烃聚合物与疏水性非甾族脂环添加剂的光刻胶组合物
281 98808966.1 含包括酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物
282 98810404.0 用于多层光刻胶方法的热固性聚酯防反射涂料
283 00109344.4 光刻胶正胶组合物
284 99117977.3 用于高光敏度高抗蚀厚涂层i－线光刻胶的磺酰肟类
285 99111698.4 一种化学增强型正光刻胶组合物
286 98803145.0 包含新的光活性化合物的正性光刻胶
287 98804589.3 用于光刻胶组合物的抗反射涂料组合物及其用途
288 98810741.4 分级酚醛清漆树脂共聚物以及由其得到的光刻胶组合物
289 00116542.9 厚膜光刻胶的低温金属化制备方法
290 98811345.7 含缩聚物的光刻胶组合物
291 00109834.9 一种形成光刻胶图形的方法
292 00121756.9 在集成电路生产中清洗光刻胶的组合物
293 00118160.2 "光刻胶组合物,其制备方法和用其形成图纹的方法"
294 99802813.4 光刻胶残渣去除剂
295 99803006.6 光刻胶膜去除方法及其所用装置
296 99803748.6 产生粒子少的光刻胶组合物的制造方法
297 99803750.8 制造光活性化合物以及由其制造光刻胶的方法
298 00134237.1 光刻胶洗涤组合物
299 99806602.8 水溶性负性光刻胶组合物
300 00134734.9 具有腈和脂环族离去基团的共聚物和包含该共聚物的光刻胶组合物
301 01102176.4 化学放大型正光刻胶组合物
302 01102197.7 化学放大型正光刻胶组合物
303 01104058.0 化学放大型正光刻胶组合物
304 01115830.1 化学增强型正光刻胶组合物和锍盐
305 99812005.7 用于正性光刻胶的混合溶剂体系
306 99812637.3 光刻胶及微平版印刷术
307 00133683.5 化学放大型正光刻胶组合物
308 98812233.2 经分馏的线型酚醛清漆树脂和由其得到的光刻胶组合物
309 99807271.0 用于193纳米波长的正性光刻胶组合物
310 01110230.6 化学放大型正光刻胶组合物
311 01129511.2 化学增强型正光刻胶组合物和锍盐
312 01129568.6 含脂环族溶解抑制剂的正光刻胶组合物
313 99813469.4 用于深紫外线光刻胶的防反射组合物
314 01135041.5 化学放大型正光刻胶组合物
315 01140069.2 "光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法"
316 00807106.3 "氟化聚合物,光刻胶和用于显微光刻的方法"
317 02101863.4 化学增强型正光刻胶组合物
318 01801511.5 含有氧和硫脂环族单元的聚合物和包含该聚合物的光刻胶组合物
319 00811514.1 用于光刻胶的抗反射涂料
320 02116115.1 光刻胶组合物
321 00815082.6 使用超临界二氧化碳法从衬底上去除光刻胶及残渣
322 200610030800.3 形成光刻胶图案的方法
323 200710145306.6 光刻胶剥离剂组合物