光刻 发明专利 880 条
序号 专利号 名称
1 03801232.4 在紫外微光刻术中修正固有双折射的方法和系统
2 02819915.4 形成光刻用防反射膜的组合物
3 02819611.2 光学元件及其制作方法以及光刻设备和半导体器件的制造方法
4 03141108.8 X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法
5 03148990.7 X射线光刻对准标记图形
6 200410032685.4 光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法
7 02822476.0 用于高精度光刻技术的图形引擎
8 200410063502.5 反射镜和使用反射镜的光刻装置
9 200410063495.9 用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置
10 200410054512.2 光刻装置及器件制造方法
11 200410054515.6 光刻装置、器件制造方法和由此制造的器件
12 200410054553.1 光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件
13 200410055004.6 光刻装置的校准方法和器件制造方法
14 200410055065.2 光刻装置和器件制造方法
15 200410059083.8 光刻装置和器件制造方法
16 200410060062.8 使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法
17 200410061804.9 光刻装置及集成电路制造方法
18 200410063230.9 光刻投影装置和器件制造方法
19 200410064067.8 光刻装置以及器件制造方法
20 200410064094.5 用于次半波长光刻构图的改善的散射条OPC应用方法
21 200410068411.0 光刻构图装置的保险机构
22 200410071212.5 光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件
23 200410057883.6 光刻装置和装置调节方法
24 200410058768.0 多层反射远紫外线光刻掩模坯件
25 200410047658.4 光刻设备和校准方法及器件制造方法
26 200410047667.3 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法
27 200410047698.9 光刻装置和器件制造方法
28 200410047781.6 光刻装置，器件制造方法及使用该方法制造的器件
29 200410047824.0 光刻装置
30 200410047827.4 光刻装置和器件制造方法
31 200410055027.7 元件的制备方法、制备的元件、光刻装置以及器件制造方法
32 200410059735.8 浸入式光刻系统及使用微通道喷嘴的方法
33 200410061680.4 用于无掩模光刻的投射光学系统
34 200410063115.1 光刻装置以及器件制造方法
35 200410068448.3 光刻装置和器件制作方法
36 200410071464.8 光刻装置和器件制造方法
37 200410066384.3 步进扫描光刻机连续扫描同步控制方法和系统
38 200410062426.6 光刻用掩模护层
39 03155531.4 光学光刻方法
40 200410048544.1 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置
41 200410068266.6 光刻装置和器件制造方法
42 200410068653.X 光刻装置和器件制造方法
43 200410068656.3 光刻装置和一种补偿光刻装置中热变形的方法
44 200410074853.6 光刻装置和器件制造方法
45 200410074855.5 光刻装置及器件制造方法
46 200410074867.8 光刻装置，器件制造方法以及由此制造的器件
47 200410025231.4 用于体硅微机械加工的局部光刻方法
48 200410058814.7 光刻抗反射硬掩模合成物及其使用
49 200410079133.9 衬底曝光方法和光刻投影设备
50 02823702.1 使用母版测度的光刻临界尺寸控制
51 200410078782.7 光刻装置和器件制造方法
52 02823960.1 一种制造具有超短槽长的自动记录的非光刻晶体管的方法
53 200410067239.7 光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法
54 200410082568.9 光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件
55 02824637.3 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机
56 200410087446.9 光刻装置和器件制造方法
57 02825806.1 制造精细结构之无阻光刻方法
58 200310100167.7 普通光源紧贴式纳米光刻光学装置
59 200310100170.9 声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统
60 200310100171.3 一种用原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法
61 200410056446.2 用于电子束投影光刻系统的发射器及其制造和操作方法
62 200410087731.0 光刻设备和器件制造方法以及测量系统
63 200410087740.X 组件、光刻装置和器件制造方法
64 200410095148.4 在光刻装置中的反射镜应用顶层，用于光刻装置中的反射镜，包括这种反射镜的光刻装置以及器件制造方法
65 200310108121.X 光刻式只读存储器的感测放大器
66 200410012023.0 光刻装置及器件制造方法
67 200410086089.4 执行基于模型的光刻校正的方法
68 200410087085.8 扩展光刻模拟积分范围的方法
69 200410087957.0 光刻装置和器件制造方法
70 200410090535.9 光刻装置和器件制造方法
71 200410095181.7 光刻装置
72 200310108190.0 具有微影光阻检测图案的光刻及其检测方法
73 200310108196.8 光刻式只读存储器的资料写入方法
74 200410090370.5 光刻装置和器件制造方法
75 200410090371.X 光刻装置及器件制造方法
76 200410090372.4 光刻装置和器件制造方法
77 200410092232.0 光刻装置和器件制造方法
78 200410092233.5 光学元件、包括这种光学元件的光刻设备及器件制造方法
79 200410094716.9 光刻装置和器件制造方法
80 02811550.3 用于相移光刻掩模的光学接近校正
81 200310115503.5 投影光学光刻偏振成像系统
82 200410091735.6 光刻评价方法和光刻工艺
83 200410058067.7 浸没式光刻系统和制造半导体元件的方法
84 200410100027.4 制备基底的方法，测量方法，器件制造方法，光刻装置，计算机程序和基底
85 200410093319.X 光刻用硫化物半导体掩膜
86 200310120546.2 X射线光刻对准标记
87 200410010444.X 光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法
88 200410100063.0 光刻装置及器件制造方法
89 02826030.9 激光刻印方法和组合物以及上面有激光刻印的制品
90 200410083009.X 厚外延层上进行投影光刻的方法
91 02811546.5 光刻掩模位相冲突的解决方法
92 200410011464.9 光刻装置和器件制造方法
93 200410049043.5 光刻装置和器件制造方法
94 200410074260.X 浸润式光刻之方法与系统
95 200410082146.1 光栅补丁装置、光刻设备、测试方法、器件制造方法
96 200410095318.9 移动用于浸液光刻的透镜的方法和装置
97 200410095448.2 光刻装置
98 200410102080.8 光刻装置和器件制造方法
99 200410104715.8 "抑制污染的光刻设备,器件制造方法,和由此制造的器件"
100 03805575.9 用于浸液式光刻的折射投影物镜
101 200410102095.4 光刻过程中晶片热形变的优化校正
102 200510011240.2 高数值孔径光刻成像偏振控制装置
103 03809147.X "光刻术的方法,装置和计算机程序产品"
104 200410078927.3 自适应的光刻临界尺寸增强
105 200410100796.4 光刻装置及器件制造方法
106 200410103875.0 使用增强的干涉映象光刻技术的特征最优化
107 200410104508.2 光学衰减器器件、辐射系统和具有它们的光刻装置以及器件制造方法
108 200410081822.3 光刻装置及器件制造方法
109 200510000307.2 曝光系统、杂散光检查用的检查掩模及评价光刻工艺的方法
110 02825172.5 使用前馈覆盖信息的光刻覆盖控制
111 200510051841.6 光学元件，包括该光学元件的光刻装置以及设备制造方法
112 200510056552.5 光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件
113 200510023858.0 步进扫描投影光刻机同步总线控制器及同步控制系统
114 200510023859.5 步进扫描投影光刻机的高速同步广播总线及总线平台
115 200410060333.X 用光刻和镀铝膜法制作的三极平板显示器及其制作工艺
116 03809609.9 特别用于极远紫外(EUV)光刻术中的发光系统
117 200510011330.1 深紫外投影光刻物镜
118 200510011332.0 光栅偏振掩模板及其在投影光刻系统中的应用
119 200510011329.9 一种双面光刻机底面套刻对准方法
120 200410056848.2 浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法
121 200510004811.X 用于光刻工艺窗口最优化的方法和系统
122 200510024229.X 步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法
123 02823847.8 光刻掩模制造
124 200510004707.0 "合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法"
125 200410083999.7 光刻制程、掩膜版及其制造方法
126 200510009073.8 光刻装置和器件制造方法
127 200510009077.6 具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法
128 200510060091.9 使用已校准的本征分解模型的光刻过程的制造可靠性检查与验证的方法
129 200510052979.8 光刻装置及器件制造方法
130 03814162.0 多层光刻模板
131 200510024376.7 全息凸面光栅光刻光路设计方法
132 200410099792.9 亚波长光刻的实施相平衡散射条放置模型的方法及其装置
133 200510011373.X 一种偏振光瞳器件及其在投影光刻系统中的应用
134 200510053040.3 光刻装置及器件制造方法
135 200510053816.1 实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法
136 200510054385.0 光刻装置、洛伦兹致动器、及器件制作方法
137 200510054499.5 光刻设备及器件制作方法
138 03817252.6 用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层
139 03817594.0 形成和修正具有间隙缺陷的光刻版的方法
140 200410031218.X 一种应用于光学光刻系统的孔径盘
141 200410085905.X 采用光刻和干刻制造碳纳米管多层图案的方法
142 200510025281.7 光刻机成像质量的检测方法
143 200510062763.X 确定光刻装置的投影系统的像差的方法
144 200510065529.2 光刻装置，器件制造方法和可变衰减器
145 200510059568.1 光刻设备及器件制造方法
146 200510062626.6 光刻装置和器件制造方法
147 200510071694.9 光刻设备和设备制造方法
148 03816008.0 感应场压的压印光刻的方法和设备
149 03820300.6 用于小线条印刷的光刻方法
150 200410011467.2 光刻装置及其应用方法
151 200410082290.5 使用干涉成像光刻法的部件优化
152 03821613.2 用于双层光刻的低硅排气抗蚀剂
153 200510054227.5 光刻装置和器件制造方法
154 200510062625.1 光刻装置、照明系统和用于旋转强度分布的光学元件
155 200510064163.7 光刻装置及器件制造方法
156 03823110.7 用于对衬底侧面进行布线的光刻方法
157 03822826.2 根据产品设计及产率反馈系统的综合性集成光刻制程控制系统
158 03133023.1 有光学元件的光刻投射装置、器件的生产方法及其器件
159 03143858.X 光刻装置和器件的制造方法
160 03143859.8 光刻装置和器件的制造方法
161 02156379.9 应用多层光致抗蚀剂层结构的光刻工艺
162 03147173.0 光刻设备和器件制造方法
163 02151872.6 光刻投射设备和用它制造器件的方法及制成的器件
164 03142709.X 用于微光刻法的先进的照明系统
165 03148353.4 光刻技术中的漩涡相移掩模
166 03147209.5 光刻设备和器件制造方法
167 02802985.2 光刻标线片的保护和转移
168 02802361.7 制造器件的光刻法
169 03156436.4 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统
170 02139397.4 氧化羰基铁光刻掩膜版
171 03133021.5 光刻装置及器件制造方法
172 03129624.6 基于光刻的喷丝毛细孔加工方法
173 03133069.X 可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方法
174 03149340.8 用于光刻工具的自动聚焦测量的系统和方法
175 03133004.5 光刻装置和器件制造方法
176 03143857.1 光刻装置和器件的制造方法
177 01821186.0 利用相移孔隙的投影式光刻
178 03155514.4 用于特殊微型光刻的基片
179 02133149.9 一种凹球面光刻刻划机
180 03155519.5 光刻装置及器件制造方法
181 02154264.3 干光刻法及用其形成栅图案的方法
182 03155139.4 夹盘、光刻装置和器件制造方法
183 03142960.2 压印掩模光刻
184 03155518.7 光刻装置及器件制造方法
185 200310113209.0 光刻用掩模护层及其制作方法
186 200310103693.9 一种光刻装置和装置的制作方法
187 200310114397.9 一种光刻装置和装置的制作方法
188 03158907.3 从表面上去除微粒的清洗方法、清洗装置和光刻投影装置
189 03147422.5 光刻系统的照明系统中使用的中继透镜
190 03164843.6 全芯片无铬相光刻技术生产中实现关键尺寸线性控制的方法
191 03125544.2 光刻装置和器件的制造方法
192 03132763.X 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
193 03142575.5 用于管理光刻镜上的光化光强瞬态变化的方法和设备
194 03147022.X 光刻设备和器件制造方法
195 03147043.2 光刻投射装置及用于所述装置中的粒子屏障
196 03147046.7 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
197 03143097.X 制作平滑的对角组件的数字光刻系统
198 03153502.X 阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法及其装置
199 03164858.4 利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法
200 03125527.2 在半导体工艺中形成亚光刻开口的方法
201 03164860.6 光刻装置及器件制造方法
202 03125493.4 光刻装置、器件制造方法及其制造出的器件
203 03164836.3 辐射源、光刻装置和器件的制造方法
204 03164861.4 光刻装置和测量系统
205 03164862.2 光刻投射装置及器件制造方法
206 200310101344.3 确定杂散辐射的方法，光刻投影设备
207 200310102435.9 利用二次电子的电子投影光刻装置
208 03164931.9 辐射源、光刻设备和器件制造方法
209 03152343.9 具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备
210 03138647.4 具有垂直于晶片台的光罩台的反射折射光刻系统及方法
211 02807622.2 带有可移动透镜的光刻装置和在存储媒体中制作数字全息图的方法
212 200310120974.5 光刻装置，镜元件，器件制造方法，及束传送系统
213 200310123918.7 器件制造方法和所制出的器件以及计算机程序和光刻装置
214 200310123944.X 光刻投影掩模和使用该掩模制造器件的方法及制造的器件
215 200310118337.4 在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备
216 200310119662.2 光刻设备和制造器件的方法
217 200310120734.5 制造光学元件的方法，光刻装置和器件制作方法
218 200310123740.6 光刻投射装置及器件制造方法
219 200310124078.6 光刻装置和器件制造方法
220 02153269.9 恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法及其光刻装置
221 200310118749.8 保持折反射光刻系统以无翻转（非镜面）像的分束器光学设计
222 200310119506.6 光刻设备和器件制造方法
223 200310119736.2 光刻装置，器件制造方法，及由此制成的器件
224 200310122295.1 光刻装置及器件制作方法
225 03159777.7 光刻中交变移相掩膜的相位/幅度误差的检测方法和系统
226 200310119917.5 具有多个抑制丝网的光刻投影装置
227 200310120288.8 光刻设备和器件制造方法
228 200310122541.3 确定光刻投影参数的方法、器件制造方法及器件
229 03164859.2 用于光刻系统的对准系统和方法
230 200310114318.4 光刻装置及确定束尺寸和发散度的方法
231 03143879.2 光刻装置、器件的制造方法和由此制得的器件
232 200310116157.2 光刻设备及制造器件的方法
233 200310120944.4 光刻装置和器件制造方法
234 200310120957.1 光刻装置和器件制造方法
235 200310123328.4 光刻装置和器件制造方法
236 200310100312.1 光刻法用洗涤液和基板的处理方法
237 02807941.8 形成光刻用防反射膜的组合物
238 03150504.X 含有非线性光学材料层的光刻用掩膜
239 200310119645.9 薄膜的光刻方法
240 200310123553.8 掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法
241 200310114774.9 具有残余物抑制装置的光刻装置和器件制造方法
242 200310121697.X 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到器件
243 200310122072.5 一种光刻投影装置
244 03132798.2 光刻装置及设备制造方法
245 03132799.0 光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件
246 200310114753.7 光刻装置和器件制造方法
247 200310121698.4 光刻装置、器件的制造方法及由此制得的器件
248 200310121700.8 具有对准子系统的光刻装置，使用对准的器件制造方法以及对准结构
249 200310123954.3 光刻装置和器件制造方法以及衬底固定器
250 02812088.4 金属镶嵌极端远紫外线光刻术用交替型相移光掩膜及制造方法
251 02811544.9 相移光刻掩模的曝光控制
252 02806953.6 光刻模板
253 200410004092.7 光刻掩模、光刻掩模的制造方法以及光刻掩模的制造装置
254 200410003848.6 检测组件和具有这种检测组件的光刻投影装置
255 200410005823.X 用于光刻装置的水平传感器
256 200410005520.8 光刻装置和检测物体的正确夹紧的方法
257 02811551.1 相移光刻掩模的设计和布局
258 02812555.X 光刻蚀法中使用的含噻吩的光酸生成剂
259 03134596.4 基于压印光刻的复合材料真三维微电子机械系统制造方法
260 200310122074.4 一种光刻投影装置及其器件制造方法
261 200410008010.6 光刻装置及器件制造方法
262 200410008076.5 "光刻设备,器件制造方法和由此制造的器件"
263 200410008081.6 光刻设备及器件制造方法
264 200410008082.0 光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件
265 200410028456.5 用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法
266 200410035272.1 光刻装置和使用光刻模拟技术优化照明光源的方法
267 200410039750.6 包括气体冲洗系统的光刻装置
268 200410002881.7 使用图案化发射体的电子束光刻装置和发射体的制造方法
269 200410033011.6 用于测量光刻装置中元件表面污染物的方法和设备
270 01820435.X 用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板
271 02806215.9 在圆片和仪器上形成半导体器件的光刻方法
272 03131171.7 使用图案化发射体的电子光刻设备
273 02123753.0 自适应全反射极紫外投影光刻物镜
274 01816781.0 制作平滑的对角组件的数字光刻系统
275 200410035209.8 光刻投影组件、用于处理基底的处理装置和处理基底的方法
276 200410045155.3 光刻处理方法，和由此制造的器件
277 200310125191.6 光刻投射装置组件表面的清洗方法、光刻投射装置、器件制造方法和清洗系统
278 200410031852.3 用于传送物体的传送设备及其使用方法以及包含这种传送设备的光刻投影设备
279 200410031854.2 用于光刻设备的支撑结构
280 03164840.1 光刻标记结构、光刻投射装置和进行基片对准的方法
281 200410032532.X 光刻设备、装置制造方法和计算机程序
282 200410036877.2 用于EUV光刻的掩模版及其制作方法
283 200410032672.7 装载锁定装置，包括该装置的光刻设备及制造基底的方法
284 200410028619.X 光刻装置中质量体的位置控制
285 200410036864.5 具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置
286 200310123211.6 用于浸入式光刻的液流接近探测器
287 200410032659.1 光刻投影装置中的聚焦疵点监测
288 200410045154.9 光刻设备及装置制造方法
289 200410045162.3 光刻装置，器件制造方法，掩模以及确定掩模和/或薄膜特征的方法
290 200410047720.X 光刻装置，设备制造方法和角编码器
291 200310108549.4 集成电路光刻设备的磁悬浮精密工件台
292 01819721.3 用于显微光刻中的抗反射层
293 02816299.4 形成光刻用防反射膜的组合物
294 200310112654.5 一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺
295 02817136.5 光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光学掩模
296 03123574.3 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置
297 200410005901.6 为用于深的亚波长光刻的掩模原版图案提供光学逼近特征的方法和装置
298 200410038707.8 光刻装置及器件制造方法
299 200410043180.8 光刻装置和器件制造方法
300 200410043262.2 用于直接写入光刻的产生可变间距嵌套线或接触孔的方法
301 200410043381.8 光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件
302 200410044589.1 控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件
303 200410059508.5 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到的器件
304 200410059589.9 光刻装置，器件制造方法以及该方法制造的器件
305 200410059599.2 光刻装置，器件制造方法和由此制造的器件
306 200410063907.9 "校准光刻装置的方法,对准方法，计算机程序，光刻装置和器件制造方法"
307 200410032688.8 一种包括传感器的组件，其制造方法及光刻投影设备
308 02817909.9 光刻用透射UV的混合氟化物晶体
309 02817990.0 光刻法和空间色散最小化的紫外透射氟化物晶体
310 02817715.0 用于纳米光刻的平行的、可单独寻址的探针
311 200510121555.2 "光刻装置,辐射系统和滤波系统"
312 200510121556.7 光刻装置及器件制造方法
313 200480004743.0 用于远紫外光刻的光致抗蚀剂组合物
314 200480017438.5 使用灰度级光刻蚀法的粘合方法
315 200510005742.4 一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法
316 200610008927.5 光刻装置和器件制造方法
317 200510121657.4 光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件
318 200610023155.2 用于光刻机的数字可调双环电机控制器及其数字调节方法
319 200510023931.4 光刻制程中对掩膜图案进行光学邻近修正的方法
320 200610004457.5 光刻系统及保持其中光学结构之间光学缝隙的设备和方法
321 200480019532.4 在浸润光刻系统中监视及控制成像的方法
322 200510137056.2 光刻装置和器件制造方法
323 200610037797.8 对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置
324 200610059227.9 光刻装置和器件制造方法
325 200510011686.5 采用微光刻技术制作缩微汉字的方法
326 200510049773.X 浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置
327 200410009038.1 采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统
328 200410009042.8 转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统
329 200410017898.X 用于光刻套刻的划片槽结构
330 03824263.X 连续地直接写的光刻技术
331 02812046.9 金属镶嵌极端远紫外线光刻技术用光掩模及其制造方法
332 200510071415.9 光刻装置及器件制造方法
333 200480000139.0 用偏振光的光刻印刷
334 200410081983.2 用于浸没式光刻的液体组合物及光刻法
335 200510071348.0 光刻装置和器件制造方法
336 200510081756.4 光刻器件及方法
337 200510025793.3 用于投影光刻机的调焦调平传感器
338 200410009113.4 半色调掩模光刻热熔成形微透镜阵列方法
339 200510071696.8 光刻设备和器件制造方法
340 200510075891.8 光刻装置和器件制造方法
341 200510081730.X 光刻装置和器件制造方法
342 200510078512.0 灯保护罩，含灯和保护罩的装置，光刻器械中安装光源的方法
343 200510076147.X 辐射系统、光刻设备、装置制造方法及其制造的装置
344 200510076586.0 光刻装置及器件制造方法
345 200380102296.8 形成模具嵌入物和模具的光刻方法
346 200510011494.4 连续面形掩模移动光刻曝光装置
347 200510011971.7 基于等离子波的纳米光刻光学装置
348 200510026450.9 光刻机投影物镜奇像差原位检测方法
349 200510079476.X 光刻装置和器件制造方法
350 200510077259.7 光刻显影装置及采用该装置制造滤色片基板的方法
351 200380104096.6 光刻系统
352 200510064168.X 光刻设备、控制系统及器件制造方法
353 200510078661.7 光刻装置和器件制造方法
354 200510084819.1 辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件
355 200510081963.X 光刻投射装置及使用这种光刻投射装置的器件制造方法
356 200380105388.1 光刻用形成防反射膜的组合物
357 200510081066.9 光刻装置和器件制造方法
358 200510081753.0 具有气体冲洗装置的光刻设备
359 200510084450.4 对准方法和装置，光刻装置，器件制造方法和对准工具
360 200380106413.8 使用双层光刻抗蚀剂作为用于光学存储的新材料
361 200510009080.8 光刻装置及器件制作方法
362 200510016501.X 一种自控液晶光阀组光刻快门
363 200510087651.X 光刻装置及用于校准该光刻装置的方法
364 200510091072.2 极紫外线磁性对比光刻掩模及其制法
365 200410009403.9 一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统
366 200410009404.3 用两个正交声光调制器的成像干涉光刻方法及光刻系统
367 200410009405.8 采用选通快门和梯形棱镜的成像干涉光刻方法及其光刻系统
368 200380107353.1 碱溶解型光刻用形成填隙材料的组合物
369 200380107934.5 "确定最佳工艺窗口的最佳工艺设定的方法,该最佳工艺窗口优化了确定光刻工艺最佳工艺窗口的工艺性能"
370 200510088258.2 光刻装置及光刻装置的制造方法
371 200510091134.X 光刻装置、包括照明系统的装置以及器件制造方法
372 200510091302.5 小批量光刻台
373 200510109853.X 用于浸渍光刻技术的组合物和工艺
374 200510087957.5 超紫外线光刻的多层镜射保护
375 200510091792.9 光刻设备和制造器件的方法
376 200510093924.1 光刻装置和器件制造方法
377 200510109896.8 光刻设备和器件制造方法
378 200510060746.2 一种基于软光刻的光互联耦合结构
379 200410068274.0 校正光刻工艺的方法以及叠合记号的形成方法
380 200510096718.6 用以减低浸入式光刻系统中移动所导致的扰动的系统与方法
381 200510060759.X 一种基于密集采样成像算法的光刻制造模拟方法
382 200510109890.0 光刻设备和生成掩模图案的方法以及该设备制造方法
383 200510113235.2 光刻设备和器件制造方法
384 200410054346.6 计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法
385 200510068537.2 用于抑制使用光刻系统印刷的特征波形化的装置、方法及程序产品
386 200510104061.3 振动检测和振动分析方法与设备及具有该设备的光刻设备
387 200510061180.5 一种亚波长光刻条件下可变偏差蚀刻模拟方法
388 200480004773.1 含有丙烯酸类聚合物的光刻用形成填隙材料的组合物
389 200510086827.X 采用一个声光偏转器的成像干涉光刻方法和系统
390 200510086828.4 采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法和系统
391 200510086829.9 采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统
392 200510086830.1 一种采用五次曝光的成像干涉光刻方法
393 200510104095.2 光刻装置和器件制造方法
394 200510107561.2 "光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法"
395 200510113781.6 光刻设备和位置测量方法
396 200510108404.3 光刻设备与装置制造方法
397 200410009664.0 极紫外光刻精密磁悬浮工件台
398 200510113796.2 光刻设备和器件制造方法
399 200510116301.1 光刻设备和器件制造方法
400 200480007041.8 光刻掩膜板的制造方法
401 200480007046.0 "中间掩模用基板及其制造方法,以及光刻掩模板及其制造方法"
402 200510113400.4 光刻设备及器件制造方法
403 200510114136.6 光刻装置和器件制造方法
404 200510119945.6 沉积物去除、光学元件保护方法、器件制造法和光刻设备
405 200510104178.1 光刻设备及器件制造方法
406 200510118070.8 光刻设备及器件制造方法
407 200480009217.3 含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物
408 200510117519.9 修正光刻掩膜中缺陷的方法和装置
409 200510118032.2 光刻设备
410 200510114138.5 光刻装置和器件制造方法
411 200510060760.2 一种基于卷积核的集成电路光刻制造建模方法
412 200480009674.2 用于沉浸光刻装置收集液体的溢出通道
413 200510120144.1 光刻装置和器件制造方法
414 200480009673.8 包括用于沉浸式光刻装置的传送区的环境系统
415 200510019949.7 一种低成本简易制作光刻掩膜的方法
416 200510124657.X 用于纳米印刷光刻技术的气动方法和装置
417 200510079653.4 用于湿浸式光刻的方法和设备
418 200510083062.4 湿浸式光刻系统中用于清洗半导体衬底的方法和设备
419 200510114979.6 用于校验光刻中的分辨率增强技术和光学邻近校正的方法
420 200480010708.X 光刻工艺、压模、该压模的使用以及光学数据存储介质
421 200510079731.0 倍缩光刻掩膜的热监测器
422 200510119369.5 光刻系统中用于可变偏振控制的方法与设备
423 200510126772.0 光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件
424 200510127016.X 衬底台、测量衬底位置的方法以及光刻装置
425 200510128823.3 光刻装置以及器件制造方法
426 200510086952.0 一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统
427 200510111117.8 一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法
428 200510129549.1 光刻设备、分划板交换单元及器件制造方法
429 200510131049.1 光刻投影装置和致动器
430 200510131051.9 光刻装置和器件制造方法
431 200510137044.X 浸入式光刻中的衬底布置
432 200480012873.9 用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法
433 200510131768.3 光刻设备和器件制造方法
434 200510131777.2 光刻设备、检偏片、组件、测量参数的方法和构图装置
435 02824636.5 光点格栅阵列光刻机
436 200510003559.0 具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法
437 200510126974.5 电磁聚焦装置及使用该装置的电子束光刻系统
438 200510092406.8 用于电子束光刻系统的电磁聚焦方法
439 200410098992.2 纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法
440 200510003503.5 光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法
441 200510003529.X 光刻设备及器件制造方法
442 200510003530.2 具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法
443 200510003545.9 光刻装置、照明系统以及碎屑捕集系统
444 200510003546.3 光刻装置及器件制造方法
445 200510003548.2 光刻设备及器件制造方法
446 200510003549.7 光刻装置和器件制造方法
447 200510134050.X 光刻装置和器件制造方法
448 200510134128.8 水平传感器、光刻设备以及器件制作方法
449 200510134132.4 光刻设备和器件制造方法
450 200510137769.9 用于光刻光束生成的方法和系统
451 200480010955.X 使用压印光刻制造的传感器
452 200510048843.X 用于光刻的柔性光掩模及其制造方法以及微构图方法
453 200510104720.3 压印光刻
454 200510048367.1 集成电路反剥离光刻方法
455 200510138200.4 光刻设备及器件制造方法
456 200480008024.6 正性双层压印光刻法及其所用组合物
457 200480014933.0 具有扩展的聚焦深度的光刻系统及方法
458 200510002157.9 芯片光刻制程中油浸式曝光方法
459 200510119148.8 关于基板的信息的测量方法和用于光刻设备中的基板
460 200510121559.0 光刻装置、照明系统和过滤系统
461 200610004195.2 光刻装置和器件制造方法
462 200610059996.9 离轴投影光学系统和使用该系统的超紫外线光刻装置
463 200610071537.2 光刻装置和器件制造方法
464 200480020864.4 用于监视和控制在沉浸光刻系统中成像的方法和设备
465 200480021018.4 光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统
466 200610055091.4 光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法
467 200510008666.2 光刻工艺产品的识别方法
468 200510024213.9 一种微细光刻图案方法
469 200610025749.7 步进扫描光刻机双台交换定位系统
470 200480022026.0 含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物
471 200510054310.2 应用在湿浸式光刻工艺中的湿浸介质
472 200480022853.X 具有改进的监测和控制的压印光刻术及其设备
473 200510121712.X 用于确定Z位置误差/变化以及基板台平整度的光刻装置和方法
474 200510138033.3 光刻设备以及装置制造方法
475 200610025895.X 一种复合减振式光刻装置
476 200480023888.5 为浸没光刻提供流体的装置和方法
477 200480018019.3 用于为浸润式光刻提供限制液体的设备与方法
478 200610073325.8 多层光谱纯滤光片与光刻设备、装置制造方法以及装置
479 200610071179.5 用于光刻应用的专用测量台
480 200610071533.4 光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法
481 200610073329.6 光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法
482 200610077418.8 光刻装置、部件制造方法及其所制造的部件
483 200610074166.3 用于制造半导体器件的光刻工艺的方法
484 200610027273.0 光刻机同步时序控制串行数据通讯方法和系统及应用
485 200480026605.2 光刻投影装置、气体净化方法、器件制造方法以及净化气体供应系统
486 200610027269.4 保持光刻机高速同步控制时序信号完整性的方法
487 200610077845.6 光刻装置及器件制造方法
488 200610077848.X 光刻装置和器件制造方法
489 200610077849.4 光刻装置及器件制造方法
490 200610079943.3 多层反射镜光谱纯滤光片、光刻设备以及装置制造方法
491 200610071125.9 使用散射测量的光刻测量
492 200610075205.1 光刻装置和定位装置
493 200610019816.4 用于光刻装置中的传感器
494 200610025445.0 光刻机成像光学系统像差现场测量方法
495 200610027707.7 浸没式光刻机浸液流场维持系统
496 200610075436.2 使用测试特征检测光刻工艺中的焦点变化的系统和方法
497 200510025685.6 光刻录媒体的信号处理方法
498 200480027622.8 用于曝光衬底的浸没式光刻方法和装置
499 200480028688.9 用于浸式光刻的方法和器件
500 200480029252.1 用于远紫外线辐射光刻的方法和设备
501 200610079880.1 压印光刻
502 200480009691.6 用于沉浸式光刻光学系统的清洗方法
503 200480030463.7 定向束的等离子体源及其到微光刻的应用
504 200610074086.8 光刻装置和器件制造方法
505 200480026213.6 光刻化学工艺的自适应性热控制
506 200610092874.X 用于极远紫外光刻的反射掩模和制作该反射掩模的方法
507 200610084813.9 用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法
508 200510136300.3 用于浸渍光刻的聚合物、含有它的光致抗蚀剂组合物、制备半导体器件的方法及半导体器件
509 200610099860.0 双台座光刻设备和器件制造方法
510 200610082751.8 在至少投射光学部件和晶片上具有相等压力的浸入式光刻装置和方法
511 200480033300.4 用于微光刻投影曝光设备的照明系统
512 200610079812.5 用于浸没式光刻的组合物和方法
513 200610092512.0 光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统
514 200610106080.4 离轴投影光学系统及使用该系统的超紫外线光刻装置
515 200480034161.7 用于动态数字光刻的实时图像尺寸调整
516 200480034424.4 减轻用于动态光刻的空间光调制器中的缺陷影响
517 200480033556.5 偏振掩膜版、光刻系统以及用偏振掩膜版结合偏振光形成图案的方法
518 200480011590.2 用于表征光刻技术对晶片的影响的系统和方法
519 200610093280.0 光刻装置和器件制造方法
520 200610107688.9 光刻装置和器件制造方法
521 200510026992.6 以ITO为P电极的两次光刻GaN基LED电极制作方法
522 200480035404.9 使用兼容浸渍媒质浸渍光刻方法
523 200610017027.7 一种采用微转移图案化图形作为掩模板的光刻图案化方法
524 200610029273.4 光刻投影物镜远心测量方法
525 200610088996.1 二步光刻法制作GaN基LED的制备方法
526 200480036055.2 大面积光刻的装置和方法
527 200480036295.2 用于图形化宽度显著不同的线的复合光学光刻方法
528 200480036538.2 光刻设备的传感器以及获得光刻设备的测量的方法
529 200610106343.1 基底、光刻多次曝光方法和可机读介质
530 200610027271.1 一种光刻机
531 200610101495.2 光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法
532 200480038343.1 光刻装置和器件制造方法
533 200480038477.3 用于浸入式光刻的可除去薄膜
534 200480038478.8 用于图形化不同宽度的线的复合光学光刻方法
535 200480038919.4 吸盘系统、使用该吸盘系统的光刻装置和器件制造方法
536 200610108541.1 光刻接触元件
537 200610100137.X 无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统
538 200480040181.5 填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法
539 200480039174.3 "光刻装置,器件制造方法以及所制的器件"
540 200510082062.2 检验相移光掩模的相移角的方法、光刻工艺与相移光掩模
541 200510027615.4 用新型存储结接触孔提高光刻工艺裕度的方法
542 200610093679.9 光刻装置、器件制造方法、由此制造的器件及可控构图部件
543 200610095876.4 进行湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置
544 200610099674.7 光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法
545 200610099680.2 光刻装置的浸没损坏控制
546 200610100019.9 浸润式光刻的方法及其处理系统
547 200610100045.1 光刻装置和器件制造方法
548 200610100125.7 光刻装置和器件制造方法
549 200610100135.0 度量、光刻、加工装置、度量方法及器件制造方法
550 200610103121.4 光刻装置、污染物收集器和器件制造方法
551 200480037132.6 微光刻处理的辐射束特性控制方法和系统
552 200610073977.1 "图案形成装置和方法,判断位置的方法、测量设备和光刻装置"
553 200610105861.1 工作台装置、光刻装置及器件制造方法
554 200480040564.2 改进的光刻方法
555 200610125718.9 远紫外光刻反射器件及其制造方法
556 200610099635.7 执行双重曝光光刻的方法、程序产品和设备
557 200610030241.6 X射线光刻掩模版的制备方法
558 200580002918.9 栅极长度不取决于光刻法的纵向栅极CMOS
559 200480034425.9 空间光调制器和用于进行动态光刻的方法
560 200580003299.5 用于各种刻蚀和光刻集成方案的无定型碳的使用技术
561 200510091733.1 用于角分解光谱光刻表征的方法与设备
562 200610109531.X 浸润式光刻的方法及其处理方法
563 200610112157.9 光刻图形的形成方法
564 200610121212.0 使用浸没光刻工艺制造半导体器件的方法
565 200610135759.6 选择栅格模型以修正工艺配方的方法及其光刻组件
566 200480041978.7 光刻装置和校准方法
567 200480041713.7 光刻装置和测量方法
568 200510135972.2 压印光刻装置及其方法
569 200510029043.3 一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统及方法
570 200510029032.5 在光刻录播放系统中获得最佳伺服增益的装置及方法
571 200580005833.6 在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法
572 200610126728.4 位置测量系统和光刻装置
573 200610116544.X 移相光栅标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
574 200610126759.X 光刻用清洗剂或冲洗剂
575 200610032375.1 一种步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置
576 200610151872.3 光刻装置和器件制造方法
577 200510103920.7 堆栈式对准标记与光刻工艺对准方法
578 200580008606.9 减少堆垛层错成核位置的顺序光刻方法和具有减少的堆垛层错成核位置的结构
579 200580008637.4 减少堆垛层错成核位置的光刻方法和具有减少的堆垛层错位置的结构
580 200610137526.X 光刻方法
581 200610117228.4 用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统
582 200610136219.X 光刻装置和器件制造方法
583 200610142098.X 光刻装置和调节器件制造装置的内部空间的方法
584 200610142302.8 光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件
585 200510030309.6 去除光刻膜的技术
586 200580010879.7 用于光刻的光源
587 200610114360.X 一种消色差浸没干涉成像光刻系统
588 200610151710.X 用平板显示器多辞典压缩方法的光刻设备和装置制造方法
589 200610160503.0 对光刻衬底上的正色调抗蚀剂层进行构图的方法
590 200580012689.9 光刻用冲洗液
591 200580012690.1 光刻用冲洗液
592 200610132121.7 光刻装置
593 200610138025.3 光刻机台、显影装置及其显影方法
594 200610117988.5 一种光刻装置的对准系统以及该对准系统的级结合系统
595 200610131770.5 用于光刻的组合物和方法
596 200610135675.2 气体喷头、光刻装置和气体喷头的应用
597 200580015552.9 光刻中的成像和器件
598 200510114473.5 光刻设备
599 200610150030.6 浸润式光刻装置、光刻装置及其洁净方法
600 200610136730.X 一种用于步进扫描光刻机的精密隔振系统
601 200610153964.5 包括放电发生器的光刻装置和用于清洁光刻装置的元件的方法
602 200610118708.2 测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
603 200510086886.7 步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统
604 200510086937.6 极紫外光刻掩模台静电卡盘冷却器
605 200610151549.6 使用浸没式光刻法制造半导体装置的方法
606 200610171860.7 光刻设备及器件制造方法
607 200610172380.2 光刻设备和器件制造方法
608 200610064737.5 光刻装置和补偿中间掩模版引入的CDU的器件制造方法
609 200610160480.3 提高浸没光刻中表面张力和接触角的系统和方法
610 200610163061.5 辐射系统和光刻设备
611 200610163176.4 光刻设备和器件制造方法
612 200610171821.7 恢复光刻工艺中横磁波对比度的方法和系统
613 200580021444.2 含有具有卤原子的萘环的形成光刻用下层膜的组合物
614 200510126232.2 纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法
615 200510111412.3 测量光刻套刻精度的标尺及方法
616 200610063950.4 防止或者降低浸没式投影设备及浸没式光刻设备的污染的方法
617 200610064156.1 压印光刻
618 200610169059.9 光刻设备和制造器件的方法
619 200610169373.7 利用多次曝光和多种曝光类型的光刻设备和器件制造方法
620 200610169375.6 光刻设备和使用干涉测量和无掩模曝光单元的装置制造法
621 200610170159.3 光刻装置和器件制造方法
622 200610171747.9 光刻装置和器件制造方法
623 200510112482.0 光刻录媒体的播放性能改善方法
624 200510112252.4 光刻掩模板清洁方法
625 200610105267.2 一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法
626 200510003372.0 一种降低浸没式光刻技术中光学部件被水溶液沾污的方法
627 200510112257.7 TFT阵列半曝光光刻工艺
628 200610064221.0 光刻设备及器件制造方法
629 200580013170.2 判断光刻系统的照射器的照射强度轮廓的装置及方法
630 200580019979.6 浸没光刻用真空系统
631 200610147715.5 一种增强光刻工艺中图形黏附力的方法
632 200710004363.2 用于减少浸入式光刻中的污染物的装置和方法
633 200710008372.9 光刻装置、器件制造方法和可更换的光学元件
634 200580022586.0 浸入式光刻系统
635 200610003068.0 用于193nm光学光刻的侧墙铬衰减型移相掩模制作方法
636 200710073240.4 非晶硅太阳能电池周边电极绝缘激光刻蚀的处理方法
637 200580019552.6 产生远紫外光的设备以及对远紫外辐射光刻光源的应用
638 200710005390.1 光刻装置和平台装置
639 200710005707.1 光刻设备及装置的制造方法
640 200710067558.1 浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置
641 200710005990.8 光刻装置及器件制造方法
642 200610057881.6 将非晶硅结晶成多晶硅的方法及使用于此方法之光刻掩膜
643 200610064244.1 光刻装置和器件制造方法
644 200710084419.X 光刻装置及器件制造方法
645 200710068120.5 一种三维多层垂直耦合光互连结构及其软光刻的制作方法
646 200710085715.1 用于增强的光刻图案化的方法和系统
647 200710085512.2 增强光刻对准的系统和方法
648 200610057084.8 晶圆光刻掩模和其制造方法与其晶圆光刻方法
649 200710085565.4 光刻装置和器件制造方法
650 200710085566.9 光刻装置、控制系统和器件制造方法
651 200710086300.6 用于移动部件的系统和方法、光刻设备和器件制造方法
652 200710088632.8 光刻装置和器件制造方法
653 200580034605.1 含有硫原子的形成光刻用防反射膜的组合物
654 200610071523.0 湿浸式光刻工艺的控制方法及其操作系统
655 200710089703.6 组件、调节系统、光刻装置和方法
656 200710091861.5 光刻装置及器件制造方法
657 200710088926.0 光刻用清洗剂或冲洗剂
658 200710021818.1 等离子体显示板电极的薄膜光刻制造方法及其产品
659 200580037032.8 含环糊精化合物的形成光刻用下层膜的组合物
660 200610131010.4 压印光刻的校准
661 200710099497.7 光刻定位自组装填充方法
662 200710092076.1 光刻装置及器件制造方法
663 200710093694.8 光刻处理单元和器件制造方法
664 200580037457.9 含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物
665 200710087658.0 用于光刻的组合物和方法
666 200610147842.5 悬挂式支撑成像系统及光刻装置
667 200710087811.X 光刻装置和器件制造方法
668 200710087890.4 位移测量系统、光刻装置和器件制造方法
669 200610075346.3 浸润式光刻技术的方法
670 200710022638.5 综合式直写光刻方法
671 200710085250.X 光刻装置以及器件制造方法
672 200710096549.5 光刻设备和制造装置的方法
673 200710101801.7 光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法
674 200710039679.5 一种光刻衍射图像防伪薄膜及其制备方法
675 200710106514.5 使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法
676 200710096840.2 光刻设备和装置制造方法
677 200480009675.7 包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统
678 200710099701.5 紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置
679 200710100643.3 用于光刻技术加工的表面涂层
680 200710105399.X 用于光刻的涂料组合物
681 200710041398.3 一种提高光刻技术分辨率的方法
682 200710102969.X 清洗方法、器件制造方法、清洗组件和装置、光刻装置
683 200580040638.7 用于产生波长范围从大约1nm至大约30nm的辐射并在光刻装置或计量学中使用的方法和设备
684 200710041903.4 光刻误差的计算方法
685 200710097005.0 在半导体工艺中形成亚光刻开口的方法
686 200710000151.7 使用浸没式光刻工艺制造半导体器件的方法
687 200710102990.X 位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法
688 200710006775.X 光刻设备、校准方法、器件制造方法和计算机程序产品
689 200580042032.7 用于显微光刻投影曝光装置的传输光学元件和物镜
690 200480042984.4 固定温度下压印光刻方法
691 200710005300.9 浸润光刻系统、图案化半导体集成电路的浸润光刻方法
692 200710042417.4 光刻机工件台平衡定位系统
693 200710102532.6 光刻设备和装置制造方法
694 200710023840.X 由透镜组组成的光刻机曝光镜头的结构及装调方法
695 200710023845.2 光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置及方法
696 200710109201.5 光刻设备和光刻设备清洗方法
697 200710043324.3 垂向微调及重力补偿装置与光刻机
698 200710104018.6 光刻设备和器件制造方法
699 200710109819.1 计量工具、含光刻设备、计量工具的系统、确定衬底参数的方法
700 200580012162.6 纳米光刻术和微光刻术用物质组合物
701 200480044654.9 支持结构与光刻设备
702 200610127823.6 光刻装置及其方法
703 200710005302.8 光刻法
704 200710040350.0 凸点光刻机的曝光方法
705 200710109896.7 光刻设备与器件制造方法
706 200710126411.5 用于光刻术的反射镜阵列
707 200580044584.1 用于亚微米光学光刻构图的透镜光纤阵列
708 200710022755.1 数字光刻技术的相位控制和补偿方法
709 200710126486.3 角分辨分光光刻术的特性测定方法与设备
710 200580042738.3 形成用于光刻转印的准直UV光线的方法和设备
711 200710101823.3 浸没式光刻曝光系统及探测其中异物的方法
712 200710041226.6 光刻机工件台平衡定位系统
713 200710043931.X 减小激光直写光刻点或线宽的薄膜结构及其制备方法
714 200710119275.7 一种光刻机硅片台双台交换系统
715 200710044559.4 光刻装置的对准方法及系统
716 200710111953.5 具有灰度滤波器的波前传感器及包括该传感器的光刻设备
717 200710129083.4 光刻设备和器件制造方法
718 200680002801.5 含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物
719 200710000117.X 用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法
720 200710045146.8 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法
721 200710127311.4 光刻设备与辐射传感器及辐射传感器制造方法
722 200710136654.7 光刻设备和像差校正装置及器件制造方法
723 200710136655.1 检查方法及设备与光刻设备及器件制造方法
724 200680003428.5 用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统
725 200710062208.6 一种液晶显示器件光刻版图的防静电方法
726 200710130117.1 测量光刻系统中的功率的系统和方法
727 200710136721.5 具有平面电机驱动支架的光刻设备
728 200710136797.8 用于补偿光刻系统中的临界尺寸的不均匀性的系统和方法
729 200710138639.6 光刻设备和器件制造方法
730 200710044153.6 用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法
731 200710044152.1 一种用于光刻设备的对准系统
732 200610029613.3 用图像同步采集光刻成像系统的像场弯曲测量方法
733 200610029617.1 光刻工艺中的光学临近效应补偿方法
734 200610029701.3 用于测量光刻机像场弯曲分布的装置和方法
735 200710119960.X 一种位相共轭成像光刻系统
736 200710130915.4 功率半导体分立器件第一层光刻对位标记的制作方法
737 200610029808.8 光刻抬离成形法
738 200610029774.2 光刻机离轴水平和对焦探测控制系统及其实现方法
739 200610029925.4 光刻图形的形成方法
740 200580002142.0 纳米级电子光刻
741 200710121241.1 一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法
742 200710121243.0 一种利用金属层缩小π位相偏移光刻特征尺寸的方法
743 200710121245.X 一种基于金属局域化效应的光刻方法
744 200710099761.7 一种全息消像差方法及其投影光刻系统
745 200710120710.8 一种具有反射式光学系统的亚波长光刻方法和系统
746 200710132530.1 具有对焦机构的直写光刻装置
747 200710152722.9 微光刻投影曝光设备的投影物镜
748 200610030117.X 多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统及其实现方法
749 200610030637.0 光刻机曝光成像装置
750 200710045044.6 透射对准标记组合及光刻装置的对准方法
751 200710045580.6 一种光刻装置和用于光刻装置的对准系统及对准方法
752 200710128855.2 用于执行暗场双偶极子光刻(DDL)的方法及设备
753 200610126080.0 在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法
754 200580040129.4 光刻方法
755 01805370.X 生产用激光刻制的数据载体的方法和所生产的数据载体
756 01805739.X X射线光刻装置
757 01108758.7 光刻成像滤波装置
758 02144390.4 使用选择性生长的碳纳米管的电子发射光刻装置及方法
759 01140916.9 接触孔洞光刻的辅助设计方法
760 00815673.5 "获得远紫外辐射的方法和远紫外辐射源,及其在光刻中的应用"
761 02123171.0 双层光刻过程
762 02136120.7 一种基于自组织的纳米颗粒图案的光刻方法
763 02145590.2 光刻装置和器件的制造方法
764 00818880.7 应用远紫外区辐射源和在该区具有宽光谱带的多层镜的光刻设备
765 02160511.4 一种光刻仪及其器件制造方法
766 02106379.6 光刻编程集成电路
767 03110533.5 光刻装置和器件制造方法
768 03110534.3 光刻装置和器件制造方法
769 02157430.8 光刻装置及器件制造方法
770 03110779.6 "对准方法,对准基底,光刻装置和器件制造方法"
771 01813412.2 晶片光刻法中显影工艺的改进方法
772 01813009.7 用于光刻法的旋压玻璃抗反射涂层的吸收性化合物
773 03140753.6 光刻装置，器件制造、性能测量及校准方法和计算机程序
774 02121962.1 多阶段烘烤光阻以改善光刻品质的方法
775 03128436.1 在衬底上加工高密度亚光刻图形的方法
776 03138452.8 吸盘，光刻投影设备，制造吸盘的方法和器件制造方法
777 03136806.9 光刻装置、器件制造方法及其制得的器件
778 03128110.9 一种激光刻蚀制作线路板的方法
779 03122450.4 制造用于纳米压印光刻的亚光刻尺寸线和间隔图案的方法
780 03122426.1 一种制造亚光刻尺寸通路的方法
781 03122236.6 在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法
782 03122237.4 用于改善光刻装置中线宽控制的系统和方法
783 01812944.7 流体压力刻印光刻技术
784 02116309.X 光探针扫描集成电路用光刻系统中振动刻写方法
785 03110769.9 光刻用掩模及其制法和光刻设备与器件制法
786 03124367.3 光刻装置和器件制造方法
787 03128643.7 光刻装置和器件的制作方法
788 02145591.0 光刻装置，器件制造方法和光学元件的制造方法
789 03101593.X "光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置"
790 03128639.9 用于无铬相位光刻技术中将半导体器件图案分解为相位和镀铬区域的方法和装置
791 02145592.9 光刻装置和器件的制造方法
792 03130765.5 光刻装置、对准方法和器件制造方法
793 03108107.X 低成本光刻技术
794 03128607.0 光刻设备和装置的制作方法
795 03128629.1 光刻装置和器件的制作方法
796 01805136.7 光刻制版激光器的处理监视系统
797 02131352.0 光刻编程系统及其应用
798 95191552.5 采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版
799 96100312.X 超高道密度伺服信息极坐标光刻系统、方法及设备
800 95118599.3 光刻方法和用于实现此方法的光刻系统
801 85104369 扫描式投影光刻机物镜
802 87102767 用光刻法处理薄金属片的方法
803 86101809 微细光刻技术
804 87105681.X 角度尺全光刻法及其夹具
805 89101298.2 用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物
806 90108839.0 光学近场显微光刻方法及所用的显微光刻装置
807 91102566.9 用背面曝光和非镜面反射层光刻形成自对准掩模的方法
808 91103400.5 用准分子激光的光刻作用对光学制品表面进行仿形加工的方法
809 90107038.6 大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置
810 92101080.X 空间投影成像无掩模光刻线圈法
811 92101497.X 空间投影成象无掩模光刻圆环形线圈法
812 91102301.1 使用伺服/数据磁传感器和光刻磁盘道跟踪系统及方法
813 91103079.4 Ｘ射线聚束光刻法及其装置
814 92107507.3 机床刻度环光刻工艺方法
815 91110769.X 用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统
816 92113223.9 高重频调制多脉冲ＹＡＧ激光刻花系统及加工方法
817 93115968.7 夜光刻(压)花装饰玻璃及其制造方法
818 94102680.9 一种微电子光刻的光化生酸源
819 94113848.8 含具有磺酸官能度的带水光刻度
820 94103513.1 一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法
821 94118033.6 真空微电子器件制造中的无版光刻工艺
822 95117362.6 处理光刻工艺中产生的废液的方法
823 94194403.4 采用紧贴光刻技术烧蚀成象
824 96120563.6 多束电子光刻系统的电子柱光学器件
825 96194282.7 为光刻产生的石英晶体坯片单一分割的刻蚀法
826 97125853.8 金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途
827 97125740.X 用于光刻工艺的模拟方法
828 98126048.9 具有垂直侧壁的亚光刻栅的场效应晶体管的制造方法
829 98117900.2 用于光刻法的孔装置及其制造方法
830 98116275.4 改进的深紫外线光刻技术
831 99125805.3 薄膜晶体管阵列面板及其制造方法和薄膜的光刻方法
832 00103516.9 电子束光刻方法及其装置
833 00106712.5 半导体工艺中顶层光刻成像的改善
834 97182380.4 超过传统分辨率极限的光刻方法
835 99119238.9 一种可以正负性互用的化学增幅抗蚀剂及其光刻工艺方法
836 98802368.7 在材料上进行激光刻写的装置
837 99121520.6 使用阴影心轴和偏轴曝光印制亚光刻图像
838 99118197.2 光刻校正的方法
839 99803249.2 耐刻蚀性改进的多环类光刻组合物
840 00130152.7 带电粒子束光刻装置以及带电粒子束的光刻方法
841 99117304.X 光刻物镜分辨力与传函测试装置
842 99811009.4 使用无抗蚀剂电子束光刻制造亚微米抗蚀金属/半导体结构
843 00109948.5 0.35微米投影光刻物镜
844 01121643.3 光刻装置和曝光方法
845 01118812.X 曝光装置、基片处理单元和光刻系统及器件制造方法
846 01104684.8 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置
847 01120598.9 阵列式光学探针扫描集成电路光刻方法
848 01123501.2 阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法及其装置
849 99814036.8 光刻接触元件
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851 01120600.4 用于集成电路光刻系统中的线阵光源扫描装置
852 00116190.3 投影光刻成像相移滤波装置
853 00130921.8 可降低邻近效应的光刻制作方法
854 01144580.7 用于阵列式集成电路光刻扫描装置的线阵光源
855 00135030.7 利用光刻技术和气相沉积技术制作新型热电偶
856 01101385.0 高温热流光刻制造方法
857 01120961.5 利用普通紫外光深刻层光刻的分离曝光工艺方法
858 01800713.9 "合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法"
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860 02104178.4 用于阵列式集成电路光刻系统的版图编码方法
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865 00122450.6 光刻蚀刻制作工艺
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871 01108435.9 超分辨力投影光刻物镜
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873 200710045037.6 用于光刻装置的掩模对准标记及对准方法
874 200710148346.6 光刻设备和器件制造方法
875 200610129184.7 一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法
876 200680004936.5 聚合物材料的光刻构图
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878 200710176531.6 一种光刻系统掩模邻近效应校正方法
879 200710181221.3 光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统
880 200480041942.9 使用软或压印光刻法制备隔离的微米-和纳米-结构的方法